193nm激光剥蚀地质化学成像系统

193nm激光剥蚀地质化学成像系统是为地质化学分析设计的激光剥蚀元素成像系统,能以较高分辨率进行地质化学成像。
193nm激光剥蚀地质化学成像系统典型应用
高速地质化学成像
精确同位素比率分析
痕量元素分析
海洋科学分析
地址年代学研究
193nm激光剥蚀地质化学成像系统标准配置
激光波长：193nm
重复频率：0-500Hz
能量：15J/cm^2
分辨率：1um
斑点尺寸：220um
成像模式：1ms, 1000像素/秒