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  • 这款射频等离子体发生器是进口射频等离子体放大器,提供13.56MHz,120W的射频等离子体发射,非常适合工业,科研和医学应用。可提供射频等离子发射功率有300W, 600W,1000W,1200W, 2400W.
  • 高功率等离子体处理机HPT-500是为器件元件等离子体处理设计的进口离子体处理器,高功率等离子体处理机用于等离子体清洁、附着力改善,等离子体表面活化增强表面润湿性,适用于金属、聚合物、复合材料、玻璃和陶瓷。
  • 台式等离子体清洗机HPT-100是为器件元件等离子体处理设计的离子体表面清洗机器,台式等离子体清洗机用于等离子体清洁、附着力改善,等离子体表面活化增强表面润湿性,适用于金属、聚合物、复合材料、玻璃和陶瓷。
  • 高级等离子体表面处理系统NEBULA是为器件等离子体处理设计的大型等离子体处理机器,离子体表面处理系统NEBULA用于等离子体清洁、附着力改善,等离子体表面活化增强表面润湿性,适用于金属、聚合物、复合材料、玻璃和陶瓷。
  • 等离子体表面处理仪CIRRUS & NIMBUS是英国进口大气等离子体处理系统,分别为单喷嘴大气模式和双喷嘴大气等离子体清洗仪器,适合等离子体表面活化、等离子体表面清洁,以及材料改性,适合聚合物、金属、玻璃和陶瓷等材料使用。
  • 工艺级等离子体清洗机是大型等离子清洗处理系统,提供强大的有机污染物去除功能而没有湿化学问题。设计考虑到了耐用性、性能和效率,满足工业和科研所需的等离子体清洁严格要求。
  • 台式等离子体清洗器是专业为实验室等离子体表面清洁处理设计的等离子体表面清洁仪器,适合于医疗器械、隐形眼镜、生物医学,科研实验室等小零件小样品表面清洁处理。
  • 这款小型等离子体表面处理机是专业为实验室样品清洗设计的台式等离子体清洗机,可用于各种等离子体工艺,包括等离子体交联和清洗各种基底(如金属、陶瓷、玻璃和硅)的有机和无机污染物,具有等离子体表面处理的主要功能又节省空间,适合科研实验室和工业研发。
  • 微波等离子体源 FPNEO-MiniMIP

    品牌:辅光 价格:0.00
    微波等离子体源是具有着高度灵活性微波等离子体发生器,可有效应用在各种精密复杂的科研实验中.微波等离子体源创造性地使用分子气体混合物补充的纯氩气,氦气,确保了将化学工艺与具体应用的要求相匹配。
  • 等离子体表面清洗器是等离子体表面处理前对样品表面清洗,活化和净化的专用表面活化仪器和表面清洗仪器,非常适合对温度敏感材料的表面处理,如塑料.等离子体表面清洗器适合难以接触的样品表面清洁处理,如狭窄的裂缝,毛细血管或狭小孔洞。
  • 等离子体主动热探头是耐高温的等离子探头,用于高温等离子体过程中流入到目标表面的能量,也可作为离子流探头使用.由于等离子体主动热探头的灵敏度非常高,特别适合用于工业生产过程或研究中的有效质量控制.有一个特殊的版本,该版本有一个更多可选的可调参数,可以用来解决等离子体工艺的研发。
  • 高精度光刻曝光机是全球领先的掩模对准曝光机,Mask aligner,是光掩膜板和硅片对准的紫外曝光机。它支持高精度掩模运动,具有光刻机精密光学对准系统,高精度光刻曝光机是光刻应用中非接触高精度光刻曝光机的领军性产品.
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